삼성전자 반도체 화성사업장의 불산가스 누출현장에서 미량의 불산가스가 검출됐다.
경기 화성동부경찰서는 29일 오전 10시30분부터 오후12시40분까지 이뤄진 사고현장 감식에 앞서 실시한 시료검사에서 미량의 불산가스가 검출됐다고 밝혔다.
경찰에 따르면 사고 현장인 중앙화학물질공급시스템(CCSS) 건물내부의 불산가스 시료검사 결과, 누출된 밸브 부분에서 불산가스 0.6ppm, 가스밸브 2m내에서 0.2ppm이 검출됐다.
고용노동부가 정한 안전기준치는 0.5ppm이다. 경찰은 또 현장 감식을 통...
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